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삼성전자, 화성 반도체 新공장 ‘EUV 라인’ 기공식
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▲ 23일 삼성전자 화성캠퍼스에서 개최된 '화성 EUV라인 기공식'에서 참석자들이 기념사진을 촬영하고 있다. (왼쪽 7번째부터 황성태 화성시 부시장, 김기남 삼성전자 DS부문장, 권칠승 화성병 국회의원, 정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부장) ⓒ 삼성전자
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<편집자주>
(뉴스투데이=권하영 기자) 삼성전자가 최첨단 반도체 극자외선(EUV) 공정을 위한 화성 공장 건립에 착수했다.
23일 삼성전자는 화성캠퍼스에서 ‘삼성전자 화성 EUV 라인 기공식’을 열고 본격적인 라인 건설에 돌입했다고 밝혔다. 신설 라인은 내년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 이듬해 본격 가동을 시작한다는 계획이다.
이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV 장비가 본격 도입된다. 그간 반도체 산업은 성능과 전력효율 향상을 위한 미세공정을 거듭해 왔지만 최근 미세화가 한계에 다다랐다는 지적이 제기돼 왔다.
하지만 삼성전자에 따르면 EUV 기술이 상용화될 경우 이러한 한계를 넘어 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있는데다 회로 형성을 위한 공정 수가 줄어들어 생산성도 획기적으로 높일 수 있다. 삼성전자는 향후 자사가 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 EUV가 핵심 역할을 할 것으로 기대하고 있다.
삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일·서버·네트워크·HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요를 적기에 대응한다는 방침이다. 아울러 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나갈 계획이다.
화성 EUV라인의 투자규모는 건설비용을 포함해 2020년까지 60억 달러 수준이다. 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자를 추진할 계획이다.
한편 이날 기공식에는 권칠승 국회의원(화성시병), 황성태 화성시 부시장, 삼성전자 DS부문장 김기남 사장, 파운드리 사업부장 정은승 사장, 지역주민 등 약 300명이 참석했다.
삼성전자 DS부문장 김기남 사장은 기념사를 통해 “화성캠퍼스는 이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것”이라며 “삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것”이라고 밝혔다.
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